Startup china afirma producción de chip fotónico sin litografía DUV, corte de costo del 90%

Una startup china ha anunciado producción de chip fotónico en obleas de 8 pulgadas usando litografía de nanoimpresión en lugar de sistemas costosos de ultravioleta profundo (DUV), afirmando una reducción de costo del 90%. El proceso evita completamente la litografía óptica tradicional, potencialmente abriendo acceso a la fabricación de chips para economías sin infraestructura fab avanzada.

Para planificadores de cadena de suministro de semiconductores, esto señala alternativas emergentes al monopolio ASML DUV, aunque la validación de rendimiento y el escalado de producción permanecen sin comprobarse a escala.