O fundo hedge Situational Awareness de Leopold Aschenbrenner investiu um total de $500 milhões em Source Foundry, uma startup em sigilo desenvolvendo tecnologia de litografia ultravioleta extrema (EUV) para desafiar a dominância da ASML em fabricação de chips avançada. O fundo fez um investimento inicial de $100 milhões em julho, seguido por uma segunda injeção de $400 milhões completada na terça-feira, 5 de agosto de 2026—apenas três dias depois que Situational Awareness quase evitou colapso quando margin calls de credores de Wall Street desencadearam um declínio de 78% em ativos em julho. Sequoia Capital também está apoiando Source Foundry.
Source Foundry visa construir máquinas de litografia EUV de próxima geração, as máquinas críticas requeridas para fabricar chips de IA de ponta em nós de processo sub-7nm. ASML atualmente mantém dominância quase total de mercado em sistemas EUV, que custam $150–200 milhões cada e são essenciais para qualquer um fabricando semicondutores avançados. A aposta Source Foundry é um jogo de longo ciclo e alta convicção: desenvolver e trazer um novo sistema EUV ao mercado tipicamente requer 7–10 anos e bilhões em P&D, e competir contra o ecossistema entrincheirado da ASML de receitas de processo, relacionamentos de cliente, e propriedade intelectual é uma empreitada de múltiplas décadas.
O timing sinaliza o retorno de Aschenbrenner ao investimento de convicção após a experiência de quase morte de seu fundo: Situational Awareness liquidou a maioria de apostas públicas de infraestrutura de IA (semiconductor, poder, ações de data center) para atender margin calls, então imediatamente redeploy capital em uma empresa privada trabalhando em infraestrutura de fabricação de semiconductores. Isso representa uma aposta de que capex buildout de IA superará capacidade de chip atual, tornando fundry e ferramentas de litografia escassas e economicamente valiosas pela próxima década.
Para arquitetos e investidores de infraestrutura, a aposta Source Foundry é significativa como sinal de convicção de capex de longo ciclo de IA. Se alternativas EUV se materializarem, poderiam desromper o poder de preço da ASML e acelerar expansão de capacidade fab. No entanto, os obstáculos técnicos e de propriedade intelectual são enormes—nenhum novo entrante comercializou com sucesso sistemas EUV em 15+ anos—e timelines de ROI se estender bem além de 2030. Este é capital de venture operando no horizonte de risco máximo e convicção de aposta longa.