Fábricas Chinas Trasladan Herramientas Domésticas a Líneas de Producción

Líderes de SMIC y AMEC hicieron un llamado público el 17 de mayo a través del programa Dialogue de CCTV para que las fábricas chinas implementen equipos de semiconductores domésticos en líneas de producción. Esto marca un cambio de validación de prototipos a uso activo de fabricación—una señal de que el desacoplamiento de la cadeia de suministro de China respecto a proveedores occidentales de herramientas ha pasado de objetivo de política a calificación operacional.

Los ingresos de equipos domésticos chinos se dispararon en 2025 aunque con márgenes comprimidos. AMEC alcanzó $1.74 mil millones en ingresos para el año completo, arriba 36.6% interanual, con ganancias netas de $310 millones, arriba 30.6%. El margen bruto cayó 1.9 puntos porcentuales a 39.2%. ACM Research, el fabricante de equipos de limpieza cotizado en EE.UU., registró $901.3 millones, arriba 15.2%, mientras el margen bruto cayó de 50.1% en 2024 a 44.4% en 2025. Naura Technology reportó $3.91 mil millones en ingresos para los primeros tres trimestres. Los tres proveedores registraron fuerte crecimiento de ingresos. La rentabilidad se erosionó en todo el sector. El analista de Needham Charles Shi atribuye la presión de márgenes a una guerra de precios interna. Con Applied Materials, Lam Research y Tokyo Electron bloqueados por controles de exportación, los proveedores domésticos ahora compiten fieramente por el mismo grupo de pedidos cautivos.

El fundador de SMIC Richard Chang prescribió comenzar con pequeños lotes de hasta 100 obleas por herramienta, luego escalar. El presidente de AMEC Gerald Yin enfatizó que las fábricas chinas frecuentemente incurren en el uso de herramientas extranjeras por hábito. Señaló que incluso los proveedores más grandes del mundo requieren dos a tres años de ajuste cuando se implementan por primera vez en una fab líder. La calificación de herramientas estándar de la industria requiere 18 a 24 meses desde la instalación hasta estado listo para producción. Esta ventana cubre confiabilidad, contaminación por partículas, desviación de proceso y throughput sostenido. Yin citó equipos de pantalla plana de AMEC como precedente: prototipo construido en 12 meses, especificaciones del cliente cumplidas en cuatro meses, enviado en 18 meses totales.

AMEC sostiene que SMIC ha comprado al menos 800 de sus herramientas. La empresa afirma que su tecnología de grabado se utiliza en la cadena de suministro de TSMC en nodos que incluyen 65nm, 5nm y 3nm. TSMC no ha confirmado públicamente esta afirmación.

Las fábricas chinas ahora obtienen aproximadamente 35% de equipos de proveedores domésticos, arriba desde aproximadamente 25% hace un año. El objetivo informal de Beijing para nuevas construcciones de fab es 50% de contenido doméstico. La localización de grabado en nodos maduros se sitúa entre 50% y 60%. La eliminación de fotorresina supera 80%. La deposición de película delgada oscila entre 20% y 30%. La litografía se sitúa por debajo de 5%.

La litografía es la restricción crítica. Shanghai Micro Electronics Equipment produce un escáner ArF de clase 90nm. Una herramienta de clase 28nm está en desarrollo. El esfuerzo más observado es el escáner DUV de inmersión Yuliangsheng en pruebas en SMIC, vinculado a SiCarrier respaldada por Huawei. La herramienta se asemeja al Twinscan NXT:1950i de ASML de 2008—dos generaciones de productos detrás del NXT:2000i utilizado en producción actual de 7nm y 5nm.

SMIC reportó pérdidas de rendimiento en 2025 vinculadas a mantenimiento de equipos y paralizaciones de validación. La foundry ha adquirido algunas herramientas extranjeras que permanecen inactivas. Las piezas de repuesto y el servicio de campo de proveedores sancionados no están disponibles. La restricción real es la ventana de calificación de producción de 18 a 24 meses. Cualquier modelo de sourcing de chips de inferencia que asuma que las herramientas domésticas cierren la brecha de nodo avanzado en menos de dos a tres ciclos de producción está valuado demasiado optimistamente. Las restricciones de litografía limitan el rango de nodos direccionables a 28nm y superiores para el futuro previsible.